Os processos de deposição química a partir da fase vapor (CVD) do diamante são extremamente complexos. Devido a essa complexidade o desenvolvimento de reatores de CVD requer a utilização de modelagens computacionais adequados. Neste trabalho se encontra uma modelagem sofisticada de um reator CVD para crescimento de filmes de diamante e se desenvolve um protótipo de simulador computacional para ajudar na resolução das equações diferenciais encontradas. Também há dados sobre as espécies químicas envolvidas. Finalmente apresenta-se uma série de resultados de simulações.
DATEIGRÖSSE | 9.18 MB |
ISBN | 9783330729544 |
AUTOR | Juan Carlos Alvarado Alcocer |
DATEINAME | Modelagem Computacional de Reatores CVD para Filmes de Diamante.pdf |
VERöFFENTLICHUNGSDATUM | 02/03/2020 |
www.lac.inpe.br Sua pesquisa concentra-se em modelagem conceitual de bancos de dados e em construção de sistemas de gerência de bancos de dados. Pelo conjunto das contribuições, em julho de 2012, recebeu o Prêmio Mérito Científico da Sociedade Brasileira de Computação. Uniform Resource Identifiers para Marco Antonio Casanova Projetos Propostos pelas Empresas de Energia Elétrica (Lei ...